焦散 (光学)

光学中,焦散现象(caustic[1])是被弯曲的面或物体反射或折射后,出现光线的包络,或包络在另一面上的射影。[2]焦散现象会形成焦散线或焦散面,每条光线都与之相切。[2]如右图所示,可见明显的焦散线。这些形状通常有尖点。
茶杯底部的肾形焦散线
水面造成的焦散线
浅水中的焦散线
装满水的玻璃杯产生的焦散现象
解释
射线经过非平面折射后,在许多光线交叉的地方会形成焦散线。
集中的光线(如阳光)会灼伤人。“焦散”(caustic)一词来自希腊语καυστός“烧焦”,途经拉丁语causticus“燃烧”。
光线照射在酒杯上时,就会出现焦散现象。玻璃杯会投射出阴影,也会产生弯曲的亮区。在理想情况下(包括平行光射入时)会产生肾形光斑。[3][4]光线穿过波浪照射在水体上时,通常会形成波纹状的焦散线。
彩虹是人们熟悉的另一种焦散现象。[5][6]雨滴对光的散射会使不同波长的光折射成半径不同的弧线,从而产生彩虹。
计算机制图
计算机图形学中,大多数现代渲染系统都支持焦散效果,其中有些甚至还支持立体焦散。这是通过光线追踪光束的可能路径,并考虑折射与反射实现的;光子映射是其中一种实现方式。立体焦散也可以由体积路径跟踪实现。一些计算机图形系统采用“正向光追”技术,将光子模拟为来自光源,按照规则在环境中反弹。在有足够光子照射到表面的区域,就会形成焦散,使其比平均区域更亮。“反向光追”则是以相反方式工作,从表面开始,确定是否有通向光源的路径。[7]这里 (页面存档备份,存于互联网档案馆)可见一些三维光追焦散的例子。
大多数计算机图形系统的重点在美学而非物理上精确,这在电脑游戏的实时渲染中尤为明显[8],游戏中大多使用预先算好的材质。
焦散工程
焦散工程描述的是解决计算机图形学中逆问题的过程。即,在给定图像的前提下,确定折射或反射光形成图像的表面。
在这问题的离散版本中,表面会被分为若干微表面,假定是光滑的,即每片微表面反射/折射的光线形成高斯焦散。这意味着,每个微表面都服从高斯分布。每块微表面的位置与方向由泊松积分与模拟退火相结合的方法得到。[9]
解决连续问题的方法多种多样,如利用运输理论中所谓最优运输(optimal transport)的思想[10]寻找入射光与目标表面之间的映射。获得这种映射后,利用斯涅尔定律反复调整,从而优化表面。[11][12]
基于最优运输的焦散图案设计
基本原理
控制焦散图案是相当具有挑战性的问题,因为表面的微小变化会严重影响图案质量:光线方向在与材料反射/折射时可能会受到其他光线的干扰。这将导致图案离散、不连续。为了解决这个问题,基于最优运输的方法是现有的建议方法之一,它可以在光线穿过某种透明材料表面传播时改变光线方向,从而控制焦散图案。[13][14]给定物体/图案的参考图像,目标是描述光线折射通过的材料表面,并汇聚到参考图像的类似图案。具体方法是重新排列/重新计算初始光强,直到得到优化问题的最小值。
设计管线
这里进考虑折射焦散,对象可按如下方式确定(不同输出的反射焦散也有类似原理):
输入: 给定光源位置,灯光通过材料传播后获得的图案图像。
输出: 接收面(平坦的固体表面,例如:地板、墙壁等)上的焦散图形。
为实现目标图案,须将光线射向外部环境的表面加工成一定形状,以便在另一面实现所需的图案。
如上述,在输入图像的情况下,该过程将产生类似的焦散图案作为输出。原则上,有两个核心阶段,又分成两个子阶段:
基于最优运输的焦散设计解最优运输问题
计算目标光分布
计算从初始分布到目标分布的映射
优化目标表面
计算表面的法线表示
表面细化
解最优运输问题
在透明表面发生折射的情况下,例如在清澈水面下出现的图案,可以观察到3种主要现象:
非常亮(凝聚光强)的点(所谓奇点)
连接各点的曲线状对象
光强度较低的区域
未进行计算,我们引入以下3个量来描述图案的几何特征:点奇异性
Φ
p
{\displaystyle \Phi _{p}}
(度量某些高度集中的点的光强)、线奇异性
Φ
c
{\displaystyle \Phi _{c}}
(度量某些较亮曲线附近的光强)、辐照度
Φ
I
{\displaystyle \Phi _{I}}
(测量某个光照不集中区域的强度)。把它们放在一起,下面的函数就定义了目标表面上某一部分Ω的总辐射功率
Φ
T
{\displaystyle \Phi _{T}}
:
Φ
T
(
Ω
)
=
∑
i
=
1
N
δ
Φ
p
i
(
Ω
)
+
∑
j
=
1
N
γ
Φ
c
j
(
Ω
)
+
Φ
I
(
Ω
)
{\displaystyle \Phi _{T}(\Omega )=\textstyle \sum _{i=1}^{N_{\delta }}\Phi _{p}^{i}(\Omega )+\sum _{j=1}^{N_{\gamma }}\Phi _{c}^{j}(\Omega )+\Phi _{I}(\Omega )\displaystyle }
这步之后,就有了两个辐射通量测量值,分别是辐射源
Φ
S
{\displaystyle \Phi _{S}}
(由初始化均匀分布)与目标
Φ
T
{\displaystyle \Phi _{T}}
(上一步计算)。剩下要计算的是从源到目标的映射。为此要先定义几个量,首先是两个由概率取值的光强:
μ
S
{\displaystyle \mu _{S}}
(用
Φ
S
{\displaystyle \Phi _{S}}
除以
Φ
S
,
Φ
T
{\displaystyle \Phi _{S},\ \Phi _{T}}
之间联合区域的通量)、
μ
T
{\displaystyle \mu _{T}}
(用
Φ
T
{\displaystyle \Phi _{T}}
除以
Φ
S
,
Φ
T
{\displaystyle \Phi _{S},\ \Phi _{T}}
之间联合区域的通量)。其次,由多个点
s
i
∈
(
Φ
S
∪
Φ
T
)
{\displaystyle s_{i}\in (\Phi _{S}\cup \Phi _{T})}
生成原网格,之后再变形。接着,在这组点
s
i
{\displaystyle s_{i}}
上定义power图
P
w
{\displaystyle P_{w}}
(一组power元
C
i
w
{\displaystyle C_{i}^{w}}
),由权向量
ω
{\displaystyle \omega }
加权。最后,我们的目标是决定要移动哪些power元。考虑面上所有
x
{\displaystyle x}
个顶点,找到以下凸函数的最小值
ω
m
i
n
{\displaystyle \omega _{min}}
,就可得到目标的匹配power图:
f
(
ω
)
=
∑
s
i
∈
S
(
ω
i
.
μ
S
(
C
i
0
)
−
∫
C
i
ω
(
‖
x
−
s
i
‖
2
−
ω
i
)
d
μ
T
(
x
)
)
{\displaystyle f(\omega )=\sum _{s_{i}\in S}(\omega _{i}.\mu _{S}(C_{i}^{0})-\int \limits _{C_{i}^{\omega }}(\|x-s_{i}\|^{2}-\omega _{i})d\mu _{T}(x))}
Remove ads优化目标面
计算过程
在解出最优运输问题后,就得到了顶点。不过,这并没有提供最终表面形状的信息。给定入射光
d
I
{\displaystyle d_{I}}
、出射光
d
O
{\displaystyle d_{O}}
及上一步所得的power图,根据斯涅尔定律可算出曲面法线:
n
=
d
I
+
η
x
‖
d
I
+
η
d
T
‖
=
d
I
+
η
x
‖
d
I
+
η
(
x
R
−
x
)
|
|
x
R
−
x
|
|
‖
{\displaystyle n=d_{I}+{\eta x \over \lVert d_{I}+\eta d_{T}\rVert }=d_{I}+{\eta x \over \lVert d_{I}+\eta {(x_{R}-x) \over ||x_{R}-x||}\rVert }}
其中
η
{\displaystyle \eta }
:折射系数
x
R
{\displaystyle x_{R}}
:解上述最优运输问题所得目标位置
得到法线表示后,通过最小化以下复合能量函数,实现表面细化:
a
r
g
m
a
x
x
ω
⋅
[
E
i
n
t
,
E
d
i
r
,
E
f
l
u
x
,
E
r
e
g
,
E
b
a
r
]
{\displaystyle {\underset {x}{\operatorname {arg\,max} }}\,\omega \,\cdot [E_{int},\,E_{dir},\,E_{flux},\,E_{reg},\,E_{bar}]}
其中
E
i
n
t
=
∑
v
∈
M
T
‖
n
o
−
n
‖
2
2
{\displaystyle E_{int}=\sum _{v\in M_{T}}\lVert n_{o}-n\rVert _{2}^{2}}
是将最优运输所得顶点法线
n
o
{\displaystyle n_{o}}
与斯涅尔定律计算所得目标法线
n
{\displaystyle n}
对齐,所得的积分能量。
E
d
i
r
=
∑
v
∈
M
T
‖
x
−
proj
(
x
S
,
d
I
)
(
x
)
‖
2
2
{\displaystyle E_{dir}=\sum _{v\in M_{T}}\lVert x-{\textbf {proj}}_{(x_{S},\,d_{I})}(x)\rVert _{2}^{2}}
:最优传输所得网格无法适应不连续面的尖点,这一项用于惩罚这种点,使其不会随入射光发生显著变化。
E
f
l
u
x
=
∑
t
∈
M
T
‖
Φ
T
(
t
)
−
Φ
S
(
t
s
)
‖
2
2
{\displaystyle E_{flux}=\sum _{t\in M_{T}}\lVert \Phi _{T}(t)-\Phi _{S}(t_{s})\rVert _{2}^{2}}
是经过网格中三角形
t
{\displaystyle t}
的能量通量。
E
r
e
g
=
‖
L
X
‖
2
2
{\displaystyle E_{reg}=\lVert {\textbf {L}}{\textbf {X}}\rVert _{2}^{2}}
是使三角形形状规则化、保持形状良好的能量。
E
b
a
r
=
∑
v
∈
M
T
‖
m
a
x
(
0
,
−
l
o
g
(
(
1
−
n
R
.
(
x
−
x
R
)
)
+
d
T
H
)
‖
2
{\displaystyle E_{bar}=\sum _{v\in M_{T}}\lVert max(0,-log((1-n_{R}.(x-x_{R}))+d_{TH})\rVert ^{2}}
是屏障能量,用于确保曲面变形不会超过一定距离的阈值
d
T
H
{\displaystyle d_{TH}}
。
Remove ads可变逆渲染焦散图样设计
基本原理
逆图形学是一种观察图像数据、推断所有可能属性(如三维几何、光照、材料与运动)生成逼真图像的方法。[15]传统计算机图形学中,为使图像具有理想的外观和效果,要赋予图像所有相关属性/特征,这可以说是前向方法;而在焦散设计中,物体(尤其材料表面)的性质并不平凡。给定约束条件就是要获得的目标图像。因此,目标是通过观察、推断目标图像,以获得其性质。这可以视作反向方法。
下面是基本损失函数,解释了如何优化参数:
L
(
c
)
=
‖
f
(
c
)
−
I
‖
2
{\displaystyle L(c)=\lVert f(c)-I\rVert ^{2}}
其中
L
(
c
)
{\displaystyle L(c)}
:损失函数,渲染图像与目标的均方误差
c:包含可能影响生成图像的元素
I:目标图像
Remove ads管线设计
可变逆渲染焦散设计
首先,设计目标图案并计算前向传递,得到合成图样。然后与目标图案比较,得到损失。
这是让合成图案尽可能与目标图案相似。然后进行反向传播,以获得焦散制造中所需的优化属性。
生成图像的元素
外观(Appearance,
A
{\displaystyle A}
):像素表面外观建模为MipMap纹理与像素亮度之积。
几何(Vertices,
V
{\displaystyle V}
):假定三维场景由三角形近似,参数为顶点
V
{\displaystyle V}
。
摄像机(Camera,
C
{\displaystyle C}
):焦距、视点、摄像机中心。
还可以有更多元素,如反照率、折射率之类。
一般可变框架
引入U为中间变量,表示2维投影的顶点坐标。这些属性的梯度可从链式法则推导出:
∂
f
∂
V
=
∂
f
∂
U
×
∂
U
∂
V
{\displaystyle {\frac {\partial f}{\partial V}}={\frac {\partial f}{\partial U}}\times {\frac {\partial U}{\partial V}}}
∂
f
∂
V
=
∂
f
∂
A
×
∂
A
∂
V
{\displaystyle {\frac {\partial f}{\partial V}}={\frac {\partial f}{\partial A}}\times {\frac {\partial A}{\partial V}}}
∂
f
∂
C
=
∂
f
∂
U
×
∂
U
∂
C
{\displaystyle {\frac {\partial f}{\partial C}}={\frac {\partial f}{\partial U}}\times {\frac {\partial U}{\partial C}}}
应用随机梯度下降后,可得最优的
A
,
V
,
C
{\displaystyle A,\ V,\ C}
。随后,这些量将用于雕刻或铣削材料,以生成目标图案。
方法
一种常见方法是利用各种深度学习自动微分框架/库(如TensorFlow、PyTorch、Theano)中执行微分运算的能力。
还有一种方法是用OpenDR[16]框架建立前向图形模型,并自动获取模型参数的导数,以进行优化。在获得优化属性后,就可以生成目标图像。OpenDR提供的局部优化方法可纳入概率编程框架,可以解决焦散问题。
制造
设计与制造过程
计算设计出焦散图样后,处理过的数据将用作机械加工。
根据所需质量、制造所需工作量和可用的制造方法,可以用各种材料。
常见折射材料:亚克力、聚碳酸酯、聚乙烯、玻璃、钻石
常见反射材料:钢、铁、铝、金、银、钛、镍
Architecture
焦散图样设计有很多应用,如
灯具
珠宝
建筑
装饰玻璃生产
另见
焦点
模糊圈
焦散 (数学)
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